Victor Bianchin
RedatorVictor Bianchin é jornalista.
A China continua avançando de forma extraordinária na fabricação de seus próprios chips avançados, mas ainda enfrenta um grande problema: no momento, não possui equipamentos de fotolitografia de ultravioleta extremo (UVE) próprios. Claro que está trabalhando no desenvolvimento dessa tecnologia e uma das estratégias que tem seguido para superar esse desafio é singular.
Em seu livro de 2010, Copycats, o professor Oded Shenkar argumenta que frequentemente os imitadores acabam superando os inovadores. Embora no Ocidente a visão seja contrária, na China existe uma percepção positiva da cópia, e os processos de engenharia reversa são uma ferramenta importante para conseguir replicar tecnologias. É isso que o país supostamente tentou, segundo indica o The National Interest (TNI).
Ao delegar a produção para a China, as empresas ocidentais acabaram contribuindo para o desenvolvimento do país e sua especialização. A guerra comercial fez com que a China, logicamente, buscasse agora sua independência diante dos vetos que enfrenta para desenvolver soluções tecnológicas próprias.
Já há avanços importantes nessa área e, recentemente, um fabricante chinês disse possuir um protótipo de máquina UVP (ultravioleta profundo) para a criação de chips relativamente avançados. Se existe um desafio crucial para fabricar chips ainda mais avançados, esse é ter acesso a máquinas de fotolitografia UVE, mas resolver esse primeiro problema é essencial para dar o salto para a tecnologia UVE. E é nesse ponto que algo curioso foi descoberto.
Ver como funciona por dentro
Segundo o TNI, foi revelado que a China foi “pega” tentando aplicar engenharia reversa em uma máquina de fotolitografia UVP da ASML. Não tanto para produzir essas máquinas em massa, indicam as fontes, mas porque os técnicos chineses estão tentando entender seu funcionamento para poder replicá-las e, a partir delas, desenvolver máquinas e chips mais avançados.
No entanto, parece que, ao desmontar um desses sistemas da ASML, os técnicos chineses o danificaram. Isso levou a que chamassem os técnicos oficiais da ASML para resolver o problema. Quando eles chegaram, descobriram que a máquina não havia se quebrado sozinha, mas que os chineses haviam tentado desmontá-la para depois remontá-la.
O monopólio da ASML
As máquinas de fotolitografia UVE da ASML são consideradas as mais complexas e avançadas do mundo, e, de fato, atualmente a empresa holandesa detém um monopólio sobre esses sistemas. São essas máquinas que permitem produzir os chips mais avançados — como os usados nas modernas aceleradoras de IA da NVIDIA — e se tornaram o verdadeiro gargalo da indústria de semicondutores.
O incidente revela dois pontos cruciais. Primeiro, a extrema urgência de Pequim em poder controlar integralmente a produção de chips. Segundo, que o desafio de criar essas máquinas vai além da mera cópia do hardware: os sistemas de litografia exigem um domínio técnico extraordinário de componentes como óptica de precisão e ciência dos materiais.
A China pode contar com engenheiros brilhantes, mas as máquinas da ASML também dependem de uma cadeia de suprimentos altamente especializada, o que dificulta certamente a construção integral de uma máquina assim na China. Um bom exemplo é a Zeiss SMT, empresa alemã que fornece os sistemas ópticos e espelhos de extrema precisão necessários para os sistemas de fotolitografia UVE e UVP avançados.
Esse suposto problema revela as dificuldades que a China enfrenta para contar com máquinas com tecnologias fotolitográficas avançadas. Em julho, a Nikkei Asia já comentava o quão complexo é conseguir ter uma “ASML chinesa”. Na análise, citavam Didier Scemama, diretor de pesquisa de hardware no BofA Global Research, que estimava que ainda levaria anos para a China conseguir algo assim. “Pode levar 5, 10 ou 15 anos, não sabemos. Será competitivo com o que a ASML faz? É altamente improvável, mas será suficientemente bom para a China”.
Imagem | Zeiss
Este texto foi traduzido/adaptado do site Xataka Espanha.
Ver 0 Comentários