Victor Bianchin
RedatorVictor Bianchin é jornalista.
A litografia por ultravioleta extremo (UVE) é o maior gargalo de toda a indústria de semicondutores. Apenas uma empresa no mundo, a neerlandesa ASML, fabrica essas máquinas, indispensáveis para produzir circuitos integrados com tecnologia inferior a 7 nm. Desde 2019, a companhia está proibida de vender seus modelos mais avançados para a China por pressão dos EUA. Cada equipamento custa entre 200 milhões e 400 milhões de dólares e, até agora, nenhum cliente chinês conseguiu adquirir um deles.
Uma equipe da Academia Chinesa de Ciências, sediada no Instituto de Óptica e Mecânica de Precisão de Xangai, construiu a primeira plataforma chinesa de fonte de luz UVE baseada em laser-plasma. À frente do projeto está Lin Nan, ex-cientista da ASML e ex-responsável técnico pelas fontes de luz para metrologia da empresa, que retornou à China em 2021 como parte de um programa estatal de atração de talentos. Sua equipe optou por um caminho que evita deliberadamente o método utilizado pela ASML, bem como mais de 2 mil de suas patentes.
Qiu Yanfang, colunista chinesa especializada em semicondutores, resumiu a estratégia: esse desvio das patentes não é apenas uma manobra jurídica; é engenharia de verdade. E foi justamente essa avaliação, publicada há apenas duas semanas, que voltou a colocar em evidência o quanto a China avançou em sua corrida pela independência tecnológica na litografia.
O caminho mais longo até a produção em massa
O truque técnico funciona da seguinte forma: enquanto a ASML gera luz UVE disparando potentes lasers de dióxido de carbono contra gotículas de estanho em movimento (um método conhecido como LPP), a equipe de Lin Nan utiliza um laser de estado sólido de 1 mícron que atinge um alvo de estanho sólido. Em um artigo publicado em dezembro de 2024, Lin e sua equipe já defendiam que esse tipo de laser poderia substituir os de dióxido de carbono como fonte de luz da próxima geração graças ao seu tamanho compacto e à maior eficiência de conversão.
No entanto, a própria Qiu Yanfang relativiza seu entusiasmo inicial. Segundo ela, no curto prazo, essa fonte de luz de estado sólido não tem capacidade para abalar o domínio da ASML, já que toda a indústria global de semicondutores construiu suas cadeias de suprimentos, suas patentes e sua experiência em engenharia em torno do laser de dióxido de carbono. Mesmo que a tecnologia chinesa obtenha bons resultados em laboratório, ainda terá um longo caminho até alcançar a produção em larga escala. De qualquer forma, o verdadeiro valor da conquista de Lin está em estabelecer as bases e formar uma equipe de pesquisa capaz de atuar desde a teoria até a engenharia aplicada.
Esse esforço também ocorre em paralelo a outra iniciativa muito mais sigilosa. Segundo revelou a agência de notícias Reuters em dezembro de 2025, a China montou um protótipo funcional de uma máquina de litografia UVE dentro de um laboratório de alta segurança em Shenzhen, embora ainda não produza circuitos integrados funcionais.
A Huawei coordena essa iniciativa, que envolve milhares de engenheiros: o Instituto de Tecnologia de Harbin é responsável pela fonte de luz, o Instituto de Óptica de Changchun pelos sistemas ópticos, e a SMEE (Shanghai Micro Electronics Equipment) pela integração final, tendo a SiCarrier (empresa chinesa apoiada pelo governo de Shenzhen e ligada à Huawei) como outra peça-chave do projeto. O governo chinês pretende produzir chips com essa tecnologia em 2028, embora boa parte dos analistas considere 2030 uma previsão mais realista.
Por enquanto, nenhum protótipo chinês demonstrou ser capaz de fabricar circuitos integrados comerciais com uma máquina própria de litografia UVE e as dúvidas sobre a velocidade real desse avanço voltaram ao centro das atenções por um motivo completamente diferente. O secretário de Comércio dos EUA, Howard Lutnick, levantou junto a altos executivos da ASML a possibilidade de que uma de suas máquinas UVE tenha chegado à China por canais clandestinos. A empresa neerlandesa, porém, negou essa hipótese de forma categórica: nenhuma de suas 314 máquinas UVE em operação no mundo, nem qualquer uma das 26 já aposentadas, está em território chinês.
A China ainda não tem sua própria máquina UVE. Mas, graças a Lin Nan, já possui algo que até pouco tempo atrás também não tinha: um caminho próprio para tentar construí-la.
Imagem | ASML
Este texto foi traduzido/adaptado do site Xataka Espanha.
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